電鍍處理過程中所用的設備主要有（yǒu）各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍後處（chù）理是對零件進行拋光（guāng）、出（chū）光、鈍化、著色、幹燥、封（fēng）閉、去氫等（děng）工作，龍門式掛鍍生產線，根據需要選用其中一種或數種工序使零件符合質量要求（qiú）。鍍後（hòu）處理常用設備（bèi）主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自（zì）動環形垂直升降電鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層（céng）與基體金屬，鍍層與鍍層之（zhī）間，應有（yǒu）良（liáng）好的結合力（lì）。
2. 鍍層應結晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍（dù）層應具有規（guī）定的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應（yīng）具（jù）有規定的各項指標，如光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為（wéi）220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設備最.大工作噪（zào）聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度（dù）(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間（jiān）及電鍍過程（chéng）的溫度，決定鍍層厚（hòu）度的大小。
電（diàn）鍍的概（gài）念
就是（shì）利用電解原理在某些金屬表麵（miàn）上鍍上（shàng）一（yī）薄層其它金屬或合金的過程。電鍍時，鍍（dù）層金屬做陽極，被氧（yǎng）化成陽離子進入電鍍液；待鍍的金屬（shǔ）製品做（zuò）陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層。為排（pái）除其它（tā）陽離子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產線（xiàn）公（gōng）司，需用（yòng）含鍍（dù）層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持（chí）鍍層金（jīn）屬陽離子的濃度不（bú）變。電（diàn）鍍的（de）目的是在基材上鍍上金（jīn）屬鍍層，改變基（jī）材表麵性質或尺寸.電（diàn）鍍能增強（qiáng）金屬的抗腐蝕（shí）性(鍍層金屬多采用耐腐蝕（shí）的金屬)、增（zēng）加硬度、防止磨耗、提高（gāo）導電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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